PECVD、ICP刻蚀机求购

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公司基本资料信息

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PECVD：能镀氧化硅、氮化硅的膜层
ICP：刻蚀深度在10um左右，刻蚀材料为PZT、铌酸锂，精度要求详谈

可将资料发送到邮箱，杨经理 yangxu_621@163.com
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