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CMPPAD抛光垫/平面研磨抛光垫

Applied to the semiconductor industry：

Proc-Equip Consumable-Lapping&Polishing-抛光布

Product Brand

SUNHIN

Specification model：

350-1380mm

Delivery period：

7-15天Day

In stock：

10000

Place of origin：

China-广东省

Quantity：

Batch	1-51件	52-101件	101件the above
Price	￥280.00	￥260.00	￥250.00

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Negotiable

Product Details
Product parameters
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Packing List
after-sale warranty

Brand：SUNHIN

Model：350-1380mm

Own series：Proc-Equip Consumable-Lapping&Polishing-抛光布

CMPPAD抛光垫/平面研磨抛光垫

Advisory

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抛光垫规格项目	具体内容参数
抛光垫常用尺寸	圆形片380mm	圆形片460mm	圆形片610mm	圆形片918mm
	圆形：230(mm)、380(mm)、640(mm)、610(mm)、820(mm)、920(mm)、960(mm)、1180(mm)、1280(mm)。厚度从0.45-1.5(mm)，最大宽幅：1.35M
抛光垫常用厚度	0.45-1.5mm
抛光垫的深加工	可针对适用之项目制作不同尺寸形状，制作剖沟、冲孔及背胶加工。可提供背PT耐酸碱AB双面胶（无残留胶）、贴合不同厚度缓冲垫及胶板。
可提供背PT双面胶，刻方格槽、压痕槽、螺纹沟槽。

抛光垫规格项目	具体内容参数
抛光垫常用尺寸	圆形片380mm	圆形片460mm	圆形片610mm	圆形片918mm
	圆形：230(mm)、380(mm)、640(mm)、610(mm)、820(mm)、920(mm)、960(mm)、1180(mm)、1280(mm)。厚度从0.45-1.5(mm)，最大宽幅：1.35M
抛光垫常用厚度	0.45-1.5mm
抛光垫的深加工	可针对适用之项目制作不同尺寸形状，制作剖沟、冲孔及背胶加工。可提供背PT耐酸碱AB双面胶（无残留胶）、贴合不同厚度缓冲垫及胶板。
可提供背PT双面胶，刻方格槽、压痕槽、螺纹沟槽。

抛光垫规格项目	具体内容参数
抛光垫常用尺寸	圆形片380mm	圆形片460mm	圆形片610mm	圆形片918mm
	圆形：230(mm)、380(mm)、640(mm)、610(mm)、820(mm)、920(mm)、960(mm)、1180(mm)、1280(mm)。厚度从0.45-1.5(mm)，最大宽幅：1.35M
抛光垫常用厚度	0.45-1.5mm
抛光垫的深加工	可针对适用之项目制作不同尺寸形状，制作剖沟、冲孔及背胶加工。可提供背PT耐酸碱AB双面胶（无残留胶）、贴合不同厚度缓冲垫及胶板。
可提供背PT双面胶，刻方格槽、压痕槽、螺纹沟槽。

CMPPAD抛光垫/平面研磨抛光垫

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