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    原子层沉积 ALD P-1000 Pro 北京正通远恒科技有限公司

    Applied to the semiconductor industry:

    Processing Equipment-PVD-等离子沉积设备

    In stock:

    1000

    Place of origin:

    China-北京市

    Quantity:

    cut back increase

    price:

    Negotiable
    Transaction guarantee Secured Transactions Online banking to pay

    Brand:

    model:

    Own series:Processing Equipment-PVD-等离子沉积设备

     PICOSUN™ P系列量产ALD系统定义了高产量ALD的新时代。我们全自动化、真空集群与产线兼容的P系列ALD确保了最大的产出效率,并且具有世界级的工艺纯度和薄膜均匀性,甚至能完全满足具有最严格要求的半导体行业标准。PICOSUN™ P系列ALD高效紧凑的设计节约了昂贵的场地成本,系统的易维护性减少了停工期。对于系统的维护、工艺故障的排除,我们为客户提供专业的售后服务Picosupport™。根据用户的需求,确保每时每刻(24/7/365)快速提供全面的解决方案。在购买之前,我们提供做样服务,确保系统具有最好的性能,完全满足您的需求。

    技术参数
    衬底尺寸和类型

    450mm晶圆40片/批次
    300mm晶圆80片/批次
    200mm晶圆12 x 25片/批次
    156 mm x 156 mm硅片800~1000片/批次(双面/背对背)
    高达400 mm x 600 mm玻璃基板30~50片/批次(双面/背对背)
    3D 复杂表面衬底
    多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品
    工艺温度

    50 – 500 °C
    基片传送选件

    气动升降(手动装载)
    工业机器人装载
    前驱体

    液态、固态、气态、臭氧源
    源瓶容量传感器,并提供清洗和装源服务
    8根独立源管线,最多加载12个前驱体源
    重量

    2000 kg
    尺寸(W x H x D)

    230 cm x 270 cm x 125 cm
    选件

    集群工具,PICOFLOW™ 扩散增强器,QCM,RGA,N2发生器,尾气处理器,定制设
    计,手套箱集成(用于惰性气体下装载),与工厂软件连接服务。
    验收标准

    标准设备验收标准为 Al2O3 工艺,
    其他工艺可具体协商:其他工艺、应用特别验收标准如:
    --不均匀性
    --颗粒物含量
    --重金属污染
    --电学性能

    advisory

    If you have any questions before purchasing, please contact us.

    Question:
     
    Ask

    这台设备的沉积均匀性如何?厚度偏差多大??

    shangdangshengjie  2017-08-25

     您可以联系我们的专业工程师,为您解答:

    北方区工程师:010-64415767

    南方区工程师:021-56664986

    2017-08-25

    Ask

    请问能定制吗?要提供哪些技术参数?购买时你们的装箱清单有哪些?

    wole  2017-07-28

     您可以联系我们的专业工程师,为您解答:

    北方区工程师:010-64415767

    南方区工程师:021-56664986

    2017-07-28

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    4001027270

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    Prices and offers

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