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    单面紫外光刻机URE-2000/17 鑫有研电子科技有限公司

    Applied to the semiconductor industry:

    Processing Equipment-Lithography-UV光刻机

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    100

    Place of origin:

    China-北京市

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    Own series:Processing Equipment-Lithography-UV光刻机

    单面紫外光刻机URE-2000/17 鑫有研电子科技有限公司

    简单介绍:光刻机:(英文名:Mask ALIGENER)又名曝光机, 该型号光刻机创新采用采用双目双视场显微镜对准;球碗调平,单片机控制,触摸开关,操作方便、实用性强。整机具有性能可靠、操作方便等特点。

    一.技术特征

    1、采用国内独创的多点梯形反射镜聚光和实现均匀照明,具有高的能量收集率和高均匀性照明性;  

    2、采用进口直流高压汞灯,光功率稳定;
    3、采用i线(365nm)紫外曝光光源,波长单一,光谱纯净;    
    4、高倍率双目双视场CCD显微镜和22英寸宽屏液晶,可同时观察对准过程,适用大视场高倍率对准;

    5、采用薄膜开关操作,数字设定曝光时间,倒计时数显,曝光量可精确控制;      

    6、配置无油真空泵,无污染,噪音小;

    7、关键器件采用进口国际品牌产品,整机可靠性高。

     


    二.技术参数  
    1、曝光面积:110mm×110mm

    2、曝光波长:365nm(纯净光源)
    2、分辨力: 1.5µm    
    3、对准精度:
    ± 1µm
    4
    、掩模样片整体运动范围:X:6mm;Y:6mm
    5、掩模尺寸:2.5寸、3寸、4寸、5寸
    6、
    直径Ф15mm--Ф100mm、厚度0.1mm--6mm(可扩展为15mm);  
    7、照明均匀性:±5%

    9、掩模相对于样片运动行程:  X:±5mm;  Y:±5mm;
    θ: ±6
    10、汞灯功率:200W(直流、德国欧司朗)
    11、曝光量设定:定时曝光 定时(到计时方式 0.1s-9999.9s任意设定、设定精度0.1s)

    12、双目双视场显微镜:物镜三队:4X、10X、20X,目镜三对:10X、16X、20X

     

    应用领域
    集成电路芯片、电子封装、微电子机械系统、微光学元件、红外探测器生物电泳芯片、激光二极管光刻、光栅光刻,波导阵列光刻、液晶显示声表器件、平板显示器、大尺寸光栅、码盘刻划等

     

    URE系列紫外光刻机系我公司重点推荐产品

    曾出口:新加坡,韩国,朝鲜,缅甸,老挝等

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