数量:2
价格:面议
包装:无损包装

发送报价

 PECVD：能镀氧化硅、氮化硅的膜层
ICP：刻蚀深度在10um左右，刻蚀材料为PZT、铌酸锂，精度要求详谈

可将资料发送到邮箱，杨经理 yangxu_621@163.com
同时半导体商城欢迎各位商家将适合要求的设备发布在www.bdtsc.com上，我们也会重点推介给用户，感谢大家支持。