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双面光刻机
EVG 光刻机
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Brand EVG
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        1985年，EVG研制出世界上首台综合了高精度背面光学对位的光学双面对位系统。这种高精度的背面对位技术是许多运用，包括微系统和微机电技术，得以实现和发展的关键。基于机械的灵活性与组件式结构，EVG的620系列光刻机能满足所有最严格的单面和双面精确对准的硅片光刻要求。 EVG光刻机可根据用户的不同要求，具有手动操作，研究及发展和大批量全自动生产应用等不同的机型。今天，EVG提供世界上最先进的对位系统。EVG620系列可提供最好的精度，适应性，易用性和模块升级能力。EVG620系列可实现最大150毫米的不同尺寸、形状及厚度的材料的对准。EVG还有EVG610, EVG6200, IQ-Aligner等多种光刻机型号，可应对客户各种不同的需求。
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