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等离子沉积设备
PICOFLOW™ 扩散增强器 北京正通远恒科技有限公司
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Brand Picosun
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 PICOFLOW™系统的目的是减缓反应气体从反应腔中排出，从而增加其在反应腔中的停留时间。这允许前驱体有更长的时间扩散至样品表面，对于提高通孔、高度曲折、纳米多孔、粉末或具有其它结构的纳米尺寸材料表面薄膜覆盖率起到关键作用。PICOFLOW™扩散增强器能够实现极高深宽比样品表面的镀膜，且不会出现前驱体回流至源管线中的现象。
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