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原子层沉积ALD
SENTECH 原子层积淀（ALD)
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Brand Sentech
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 ALD逐层沉积，在三维形貌沉积中保持高的均匀性，通过工艺过程中分步添加前置物，可以准确的控制膜厚和薄膜特性折射率和消光系数。PE-ALD是一种先进的方法，通过将自由基（radical）的气体样品，而不是水（沉积过程中作为氧化物oxidizer）。 


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