PVA TePla 射频等离子体去胶机

PVA TePla 公司的 IoN 40 射频等离子体设备是为实验室和生产领域设计的全功能的等离子体处理设备。该设备外观简洁，系统高度集成化，可应用与半导体、生物技术、电子、医疗、材料等各个领域。PVA TePla公司的高品质、高性价比、操作简单的等离子体设备为各种不同应用领域提供了最先进的创新解决方案，得到用户的广泛信赖。

型号：IoN 40  (M4L 升级版)


典型应用：


表面精密清洁

表面活化
 
提高表面粘合性

去除氧化层

去除光刻胶

改变表面亲水性/疏水性 

分子接枝  

涂层




规格参数：

13.56MHz风冷射频电源（0～600w可调，可选0～300W）

高灵敏快速自动匹配功能

阳极表面处理铝制腔体

内部尺寸：229×330×483mm（36.5L）

水平抽卸极板/垂直极板/侧壁极板/水冷极板/料盒电极/笼式电极

不锈钢防腐蚀MFC

多至6路工艺气体

2路驱动气体

快/慢回填气体

PC工控机控制，运行数据自动存储

触控屏图形化界面，运行状态实时显示

外形尺寸：775×723×781 mm

可选配置：

法拉第桶

压力控制系统

水冷系统

真空泵（旋片泵、干泵、涡旋泵）

认证：

CE 认证

EN 61010

EN 61326

Semi E95

USP Class VI

FDA CFR Title 21 Part 11

CISPR 55011

ISO 9001

NFPA79

NFPA70