中普尼^TM（chinapony^TM）公司是最早从事净化半导体技术产品研制工作的企业，为国际领先的净化行业先驱之一。CPN-PSD-100/OP净化显影（匀胶）机是中普尼^TM（chinapony^TM）公司多年来的优质产品，一直畅销于世界各地，广泛应用于机械电子、化工、医药卫生、精密仪器制造、科研领域等行业。

品牌：   英文品牌：CHINAPONY^TM        中文品牌：中普尼 ^TM

是行业内唯一 一家入选“中国品牌大会暨建国六十周年全国品牌盘点表彰盛典”并荣获"中国半导体行业影响力十大畅销品牌"的全球顶级制造商!

CPN-PSD-100/OP型净化显影机：

       CPN-PSD-100/OP型净化显影机亦是CPN-PS系列产品的基础品种之一，是半导体器件制造过程中的专用工艺设备，采用先进的单片微型机程序自动控制，实现喷雾显影工艺，电路清晰完整，由于控制系统稳定，在进行工艺中不飞片，显影速度快（30S）和节省显影液，主要用于科研和生产单位大规模集成电路和其他半导体器件的光刻工艺中作显影之用。

       本机显影工艺采用了先进的喷雾方式，可根据工艺要求喷雾状态电机的转数，程序时间的工艺参数都可在很宽的数值范围内调整。其程序为延时吸片-显影-漂洗-干燥-延时复位。

       采用喷雾显影工艺后电路图形清晰完整，特别是对较细线条电路采用此工艺可得到很高的效果。

       本设备除能显影工艺外,亦可进行涂胶工艺.

主要技术指标：                                                   

显影工位：1个工位                                         

程序时间：显影 1-99秒或999秒

          漂洗 1-99秒或999秒                                       

          干燥 1-99秒或999秒                                                   

旋转器转数：500-8000转/分（连续可调）                                        

硅片直径：Φ1—Φ100mm                                                                 

净化效果：100级（美国联邦标准）                                                

操作区风速：0.3-0.5米/秒 

气流状态：垂直层流

外形尺寸：1620mm（高）*650（宽）*800

整机包装重量：150KG

氮气源：N2管道或钢瓶（进气压力0.2-0.3MP/cm²）