工    艺：I线光刻机

    工艺能力：0.5微米

    衬底尺寸：4英寸、5英寸、6英寸、8英寸

传片方式：皮带单片传送，片架到片架传送

二、设备配置：

    硅片传输系统

    掩膜版自动传输系统

    633nm激光对准系统

照明系统500W汞灯光源，365nm波长

二维精密XY工作台

    预对准系统

    环境控制器

三、工艺指标

PAS5000光刻机是ASML公司生产的I线步进式光刻，其投影背率5：1，曝光波长为365nm，分辨率为0.5um，最大曝光场大小为15mm*19mm。设备匹配对准精度0.1um。