CMP磨抛机
研磨设备CMP磨抛机
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Brand crystapol
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研磨设备CMP磨抛机精密减薄背减crystapol 精湛的磨抛工艺
超过100家院校,单位研究所,选择我们量身定制设备,欢迎来电咨询:010-57168280 赵小姐

IBM400:
主要用于硅片、宝石、光学玻璃、陶瓷片、石英晶体及其他半导体材料的研磨,也用于其它硬脆材料的高精度研磨加工。

可拓展性强

可维护性强

操作简单方便

速比设置合理

使用寿命长

结构紧凑体积小

详细描述:

1.加工样品尺寸4英寸及以下尺寸样品

2.可磨抛样品数量设备具有1个工位,最大可以加工4英寸样品.

3.可加工样品种类Si,SiC, GaAs, InP,CZT, MCT等多种半导体材料

4.整机防腐蚀,适用CMP应用设备主机及所有零部件耐腐蚀,适用CMP应用

5.设备工作时间,磨抛盘转速,样品固定系统驱动转速及摆幅等参数采用精确数控,所有参数具有数据存储及记忆功能。所有控制系统部件上置于磨抛工作区域,以避免磨抛工作过程中磨抛废料渗漏腐蚀操控系统。




提供可视实验室参观!期待您的来电!

 

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