LHQ-200型PECVD淀积系统 Leuven鲁汶仪器（中国北京）
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Leuven |
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LHQ-200型PECVD淀积系统 Leuven鲁汶仪器（中国北京）
系统简介
l具有平行板电极结构，可进行8英寸片薄膜生长的单腔室设备。
l能淀积SiO2,SiN以及本征α-Si等薄膜。
l适用于半导体器件和IC制备中钝化膜的淀积。
l采用带触摸屏的集成工控机自动控制工艺流程，可靠性高，工艺重复性好，经久耐用。
l用户可自设定和记录多种实验程序，操作简单、效率高。
l可广泛地用于微电子、光电子、太阳电池、半导体器件和传感器等领域。
机器性能
1、可以在200℃~300℃下淀积SiN、SiO2和不掺杂的非晶硅等薄膜；
2、均匀性：≤±5%；
3、淀积速率： SiO2≥30nm/min (采用Ar稀释的5%安全浓度的SiH4)。
标准配置
1、阳极氧化铝反应腔室；
2、载片台（下电极）可放最大样片尺寸：8"圆片或152mm×152mm的方片。样片温度在200~350℃可调；
3、5路进气，5个数字式质量流量计控制流量，可定制增减；
4、射频电源，带自动匹配器；
5、分子泵机组抽本底真空，机械泵抽淀积时的反应气体；
6、工艺过程由带触摸屏的集成工控计算机控制。工艺条件可预设定；
7、有严格的捡漏、互锁、报警和强排风等防毒、防爆的安全措施。
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江苏鲁汶仪器有限公司是由比利时鲁汶仪器、中科院微电子研究所等共同注资成立。公司总部位于江苏省邳州市，在比利时设有研发中心及销售部，在北京和俄罗斯设有销售部。公司秉承“以创新为主导，客户信赖为第一”的宗旨，倡导精益求精的工匠精神，为客户提供性能卓越的半导体研发、生产、材料检测等精密设备及配套技术服务。
公司旨在研发与生产大学实验室、研究所及半导体生产线所需仪器设备，瞄准定制化市场。主要产品有薄膜材料纳米孔径分析仪、高端平台刻蚀机、等离子体刻蚀系列设备、化学气相沉积系列设备、溅射薄膜镀膜系列设备、原子层镀膜系列设备、湿法清洗刻蚀系列设备等，公司拥有自主专利技术，核心产品技术国际领先。
公司坚持以人为本，技术团队囊括诺贝尔奖获得者、两名“千人计划”专家，多名国内外半导体领域知名教授及高校科研院所的年轻技术骨干。国际一流的人才团队为公司保持技术领先、实现创新驱动打下了坚实的基础。
公司致力于成为全球一流的半导体设备供应商，愿与客户、供应商、业界同仁及投资者共同开拓和缔造半导体设备领域的广阔未来！
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