电子束蒸发镀膜机 沈阳金研

1、 设备用途：本设备用于制备各类高熔点金属膜、介质膜、化合物膜、导电薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构对薄膜材料的科研及小批量制备。

2.技术数据：

极限真空度（分子泵系统）	5.0×10-4Pa	压升率	0.33Pa/H
电子束蒸发源	e型电子枪	阳极电压	6KV、10KV
功率	0—6KW可调	坩埚容积	10－15cc
转盘可放样品数	6个	样品最大尺寸	Ф60mm
加热温度	室温～400℃	控温精度	±1℃
样品公转转速连续可调	0-60RPM

2.1设有固定式样品挡板一套
2.2主真空室立式U型真空室前开门，双层水冷
2.3主真空室真空获得系统分子泵，机械泵，高真空气动挡板阀
2.4石英晶体振荡膜厚监控仪速率分辨率0.1－99.9à/分，厚度分辨率1à
2.5气路系统设有一路高精度氧气质量流量控制器，流量0-50SCCM

3.技术规格：JEBC-xxxx