NSR2205EX14光刻机 上海卓晶半导体科技有限公司 设备商城
主要技术指标
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分辨率 |
0.25μm |
Resolution |
0.25μm |
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N.A. |
0.6 |
N.A. |
0.6 |
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曝光光源 |
248nm |
Exposure light source |
248nm |
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倍率 |
1:5 |
Magnification |
1:5 |
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最大曝光市场 |
22mmX25.2mm |
Maximum Exposure area |
22mmX25.2mm |
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对准精度 |
50nm |
Alignment accuracy |
50nm |
提供4”、5”、6”、8”、设备改造。
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