JKG-3型 高精度光刻机 上海学泽光学机械有限公司 设备商城
本机是制造中、大规模集成电路，传感器，表面波元件，磁泡，微波和CCD等器件的重要光刻设备。
主要技术参数
| 1、适用的掩模尺寸： | a、150*150*2.3mm（选购） b、125*125*2.3mm c、100*100*2.3（选购） |
| 2、适用的硅片尺寸： | a、ф125mm（选购） b、ф100mm c、ф75mm（选购） |
| 3、曝光分辨率 | 2чm |
| 4、掩模与硅片之间的相对位移范围： | X、Y±5mm，θ±5° |
| 5、掩模旋转范围： | ±5° |
| 6、承片台的球座平面至掩模板面微调范围 | 0~1mm |
| 7、曝光灯源： | 200W超高压直流汞灯 |
| 8、曝光谱线： | 436、405、365（nm） |
| 9、曝光系统能量不低于 | 18mw/cm2 |
| 10、曝光系统的照度均匀度： | ф110mm范围内±3%；ф136mm范围内±5% |
| 11、显微镜的照明波长： | ≈545nm |
| 12、曝光时间控制范围： | 0~99.99S |
| 13、双目分离视场显微镜的放大倍数 | |
| （1）目镜共二种：10X,15X （2）平视场物镜共三种：4X,10X,16X （3）合成放大倍率：40X-240X | |
| 14、分离视场调节范围 | 30~80mm |
| 15、真空接触压力： | ≤-0.06Mpa |
| 16、供电电源 | AC220V±10% 50HZ |
| 17、环境温度： | 22±2°C |
| 18、相对温度： | ≤60% |
| 19、净化等级： | 100级 |
| 20、外形尺寸： | W960*D1000*H1400mm |