半导体材料腐蚀清洗机
酸碱清洗设备 2-6寸硅片清洗 苏州晶洲
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Brand 苏州晶洲
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设备名称:酸碱清洗设备

总体规格: 1200mm(L)×1100mm(W)×2000mm(H) (可变)

适用于:2-6寸硅片清洗

控制模式:半自动控制(手动操作,工艺参数控制过程为自动)

工件:2-6寸硅片

产能:25/槽,可按客户产能需求设计

节拍:0~99min可调

设备特点:

1.设备骨架为SUS304外包3mmPP-w,外壳采用德国进口PP-W板焊接。

2.酸槽采用5mmGE石英热熔焊接而成,槽体采用贴膜式加热。

3.QDR/DIW槽:德国进口10mmPP-N板热熔焊接而成。

4. 采用台达触摸屏人机界面操作和“三菱”PLC控制;

5.设备采用耐腐蚀导线并通过耐腐蚀PE 管进行保护,防腐防水。

6设备底部安装3mm PP 防漏托盘,有效防止设备漏液损害厂务地板。

7.用户操作人员上料后,全过程自动化控制,减少人工干预。设备具有自动化程度高、运行成本低、生产效率高、性能稳定、安全可靠等特点。

8.设备安全性能高,设备在防漏液、加热、漏电等方面都做了严格的设计,确保人身和厂务安全。

 

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