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设备名称 |
湿法刻蚀设备 |
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设备形式 |
室内放置型 |
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设备种类 |
单片刻蚀、槽式刻蚀 |
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操作方式 |
手动/自动 |
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每批最大处理量 |
50片 |
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单槽清洗量 |
50片/2盒 |
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被清洗硅片尺寸 |
3寸 / 4寸/5寸/6寸/8寸 |
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最大产量 |
视客户工艺周期 |
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时间控制 |
1s |
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温度控制 |
0.1摄氏度 |
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转移时间 |
酸槽到水槽转移时间小于2秒 |
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均匀性 |
开槽均匀性±5μm |
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节拍 |
节拍可调根据实际工艺时间而定 |
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用途 |
用于硅，二氧化硅，氮化硅，碳化硅等晶圆片或者玻璃片的刻蚀 |
