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光刻技术代工服务

Published on:2017-11-22 Author:3136722

光刻(photoetching or lithography)是通过一系列生产步骤,将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺。在此之后,晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。通过光刻工艺过程,最终在晶圆上保留的是特征图形部分。

       公司提供电子束光刻、激光直写、步进式光刻、接触式光刻、硬掩膜光刻等光刻技术,线宽最小可达10nm,多种光刻结合的先进光刻理念,实现了不同尺寸的光刻需求。

 服务流程:

 

  1. 客户提出功能要求;

  2. 设计工程师进行结构、尺寸和工艺设计;

  3. 确认设计方案、制备周期和价格;

  4. 开始制备;

  5. 交付产品。

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