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一站式MEMS解决方案

Published on:2017-12-14 Author:3139139

江苏英特神斯科技有限公司MEMS加工平台位于南京浦口高新技术开发区,平台建于2009年,拥有100级净化厂房40平方米,1000级净化厂房300平方米。MEMS加工平台拥有国内一流的MEMS前道加工设备、技术和人才,面向国内和全球客户,提供完整的MEMS器件设计加工服务。
光刻工艺
光刻工艺一般包括前处理、匀胶、对准曝光、显影、烘干等工艺步骤
光刻设备型号:EVG620 双面光刻机
对准精度(20X目镜)
正面0.5um   背面1.0um
处理晶圆尺寸:
衬底直径150mm,衬底厚度0.1~10mm


 


匀胶设备
EVG150 全自动涂胶机


 

国产 KW-4A 手动匀胶机


 


显影设备

Mask Cleaner
设备型号:Ultratech 603



100级洁净烘箱/HDMS烘箱
 


 

SRD甩干机
设备型号:SemiTool  ST 470F / ST 870

键合工艺
可进行的键合类型:阳极键合、共晶键合、焊料键合、硅硅键合(预键合)、玻璃-玻璃键合。
键合机型号:EVG 520IS
处理晶圆尺寸:衬底直径150mm

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