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    锗片抛光液 锗抛光磨料速率高 光学加工耗材研磨光亮剂 西美

    Applied to the semiconductor industry:

    Proc-Equip Consumable-Lapping&Polishing-抛光液/粉

    Product Brand

    天津西美半导体材料有限公司

    Specification model:

    CM-S1300

    Delivery period:

    商议Day

    In stock:

    10000

    Place of origin:

    China-天津市

    Quantity:

    cut back increase

    Price:

    Negotiable
    Transaction guarantee Secured Transactions Online banking to pay

    Consumer Hotline:00864001027270

    Brand:天津西美半导体材料有限公司

    Model:CM-S1300

    Own series:Proc-Equip Consumable-Lapping&Polishing-抛光液/粉

                                             天津西美半导体材料有限公司

                       抛光液研磨液专业生产厂家

     

         本公司是一家专门致力于光电材料及机电设备技术开发、生产、销售及服务的科技型企业。公司本着“品质第一、顾客至上、互惠互利、科学发展”的理念,严格按照ISO9000质量体系进行管理,以优质的产品和服获得了国内外知名公司的一致认可。

     

         公司非常注重产品质量的提升,不仅拥有一支高素质、高技术含量的研发团队,其中硕士以上学历占67%,同时聘请了国内知名大学的资深专家,作为企业技术研发顾问,把企业实际研发特点与理论研发相结合以提高企业的开发战略水平,增强企业的研发能力,保持企业新技术、新产品开发的竞争优势。

     

        主要经营项目:蓝宝石衬底、硅片、锗单晶片、砷化镓晶片、碳化硅以及其他半导体材料抛光工艺过程使用的抛光液;适用于各种半导体材料、水晶材料、磁性材料等的清洗剂。

     

     

        公司凭借丰富的生产、品质管理经验和专业的技术团队,将竭尽所能为广大新老客户提供最优质的产品和贴心的服务,协助客户解决在抛光、清洗方面遇到的难题,欢迎广大客户朋友前来公司参观、洽谈,携手共创美好的明天!

     

     

    产品介绍:

        

      CM-S1300抛光液主要A、B两组分组成,A组分由高纯度胶态二氧化硅组成,B组分抛光助剂;特别适用于锗的抛光,使用简单,并且具有金属离子含量极低,表面张力低,易清洗,抛光速率高,平整度高对设备无腐蚀等特点。

     

           CM-S1300 are mainly composed of A and B,A is high purity colloidal silica, B is polishing agent, which is especially suitable for the polishing of germanium, simple to use, and a metal ion content is very low, low surface tension, easy cleaning, polishing rate is high, the characteristics of high flatness, no corrosion to equipment and so on.

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