合金靶材 溅射靶材
溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面。
溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。
根据形状可分为长靶，方靶，圆靶，异型靶
根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
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材料及符号
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纯度
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规格
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锌铝合金靶(ZnAl)
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99.99%
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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锆钛合金靶(ZrTi)
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99.9%
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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锆铌合金靶(ZrNb)
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99.9%
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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钨钛合金靶(Wti)
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99.9%
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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钨铼合金靶(WRe)
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99.9%
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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钛镍合金靶(TiNi)
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99.9%
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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钛铝合金靶(TiAl)
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99.9%
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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镍钒合金靶(NiV)
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99.9%
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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钼硅合金靶(MoSi)
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99.5%
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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铟锡合金靶(InSn)
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99.99%
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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铱铼合金靶(IrRe)
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99.9%
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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铱锰合金靶(IrMn)
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99.5%
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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铜硒合金靶(CuSe)
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3N5,4N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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铜镓合金靶(CuGa)
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3N5,4N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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铜铟合金靶(CuIn)
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4N,5N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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铬硅合金靶材(CrSi)
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3N5,4N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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铝硅铜合金靶材(AlSiCu)
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3N,4N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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铝硅合金靶(AlSi)
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4N,5N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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铝铬合金靶(AlCr)
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3N5,4N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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铜铝合金靶(CuAl)
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4N,5N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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镍铬铝合金靶(NiCrAl)
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3N,4N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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镍铬硅合金靶(NiCrSi)
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3N,3N5,4N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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镍铬合金靶(NiCr)
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3N,3N5,4N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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钛铝合金靶(TiAl)
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2N5,3N,4N
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平面靶，圆柱靶，台阶靶，管状靶
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