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用途: 用于方形基片光刻胶涂覆工艺 主要组成部分: 该设备主要由匀胶单元、光刻胶分配系统、控制系统等组成,采用框架 结构,外表为优质不锈钢护板,无发尘量且不吸浮尘颗粒,工作方式为手动上下片,自动完成匀胶工艺。 主要特点: ◆适应尺寸:200mm×200mm t=8mm以下方形基片 ◆具有旋涂、匀胶、清洗、吹氮功能。 ◆主轴采用德国进口电机及部件 ◆高转速、高精度±1RPM |
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