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| 产品名称 | 产品外观 | 密度 | pH(3%) | 用途及使用方法 | 产品特点 |
| ASTP100 | 无色至淡黄色透明液体 | 1.00-1.10 | 11.0-12.0 | 用于蓝宝石衬底芯片及PSS片的去胶；浸泡或超声下原液使用，温度80-85℃。 | （1）碱性有机体系； （2）对Al，GaAs不腐蚀； |
| ASTP120 | 无色至淡黄色透明液体 | 1.00-1.10 | 11.0-12.0 | 用于蓝宝石衬底芯片及PSS片的去胶；浸泡或超声下原液使用，温度80-85℃。 | （1）碱性有机体系； （2）对Al，GaAs不腐蚀； （3）去胶寿命长； |
| ASTP130 | 无色透明液体 | 1.00~1.10 | 11.0~12.0 | 用于半导体和 LED 芯片正性和负性光刻胶的去除 | 清洗能力强，正性和负性胶通用。与 Al、GaAs和 AGIP有良好的相容性，使用寿命长 |
| ASTP150 | 无色至淡黄色透明液体 | 1.00-1.10 | 11.0-12.0 | 用于蓝宝石和砷化镓衬底芯片的去胶；浸泡或超声下原液使用，温度80-85℃。 | （1）强碱性有机体系； （2）去胶能力强，高效去除ICP后的残胶； |
| ASTP210 | 无色至淡黄色透明液体 | 1.05~1.10 | 11.0~12.0 | 用于半导体和 LED 芯片正性和负性光刻胶的去除 | 清洗能力强，正性和负性胶通用。与 Al、GaAs和 AGIP有良好的相容性，使用寿命长 |
| ASTP300 | 无色至淡黄色透明液体 | 1.00~1.10 | 2.0~3.0 | 用于半导体和 LED 芯片、PSS 片正性和负性光刻胶的去除 | 清洗能力强，正性和负性胶通用。与 Al、GaAs和 AGIP有良好的相容性，使用寿命长 |
| ASTP316 | 淡黄色透明液体 | 1.00-1.10 | 2.0-3.0 | 用于黄光GaAs芯片去胶；浸泡或超声下原液使用，温度80-85℃。 | （1）酸性有机体系； （2）对GaAs无腐蚀； |
