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1.抛光:用于制备CMP抛光液,用于硅单晶片、砷化镓片、蓝宝石晶片、半导体化合物晶片、硬盘盘片、宝石、液晶玻璃、镜头、金属表面等产品的抛光。
2.催化剂载体、数码印刷等。
二.性能指标
指标名称 |
型号及标准 |
|||||
LS30 |
LS50 |
LS80 |
LS100 |
LS120 |
LS150 |
|
粒径(nm) |
30-40 |
50-60 |
80-90 |
100-110 |
110-120 |
140-160 |
SiO2含量 |
30-50% |
|||||
分散介质 |
水 |
|||||
pH值 |
2-11(可定制) |
|||||
分散状态 |
单分散 |
|||||
胶粒形态 |
球形 |
|||||
保质期(月) |
≥12 |
三.用于抛光液的使用方法
建议用去离子水将浓度稀释至10-20%,也可根据实际工艺要求改变配比,若要调节pH值,可以用10%
HCl,3%NaOH,5%KOH或者10%氨水在充分搅拌下慢慢滴入。
四.包装及储存
1.采用聚乙烯塑料桶包装,主要包装规格有25Kg、250Kg、1000Kg。
2.避免曝晒,贮存温度为5-40℃,低于0℃则产生冻胶而报废。
3.避免敞口长期与空气接触。
20nm激光粒度分析
50nm激光粒度分析
100nm激光粒度分析
30nm电镜照片
50nm电镜照片
100nm电镜照片
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