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    单层结构抛光革、双层结构抛光革 抛光布 上海权友

    Applied to the semiconductor industry:

    Proc-Equip Consumable-Lapping&Polishing-抛光布

    Product Brand

    上海权友

    In stock:

    100

    Place of origin:

    National

    Quantity:

    cut back increase

    Price:

    Negotiable
    Transaction guarantee Secured Transactions Online banking to pay

    Brand:上海权友

    Model:

    Own series:Proc-Equip Consumable-Lapping&Polishing-抛光布

    公司以成熟的技术和稳定的工艺为您提供满意的产品,抛光革是采用精密的技术将聚氨脂和纤维织物合成的抛光材料,在抛光过程中具有弹性好,力道柔和,无划伤,无塌边的特点。例如,抛光后的磁钢汞晶片的厚度仅为8—10U,其精度之高可见一斑。为此,这就对抛光布提出非常苛刻要求;其表面微孔层既要满足碲镉汞晶片抛光的各项技术指标,同时。又要在其背面的胶粘剂层有优良的抗化学抛光液的能力,而保持足够的剥离强度等特点。多用于高精度镜面体的抛光。

      公司生产销售的单层结构抛光革、双层结构抛光革,可以广泛应用于水晶、玻璃、不锈钢等产品的抛光,还可用于锗酸铋、砷化镓等半导体材料及彩电玻壳、煤片、单晶硅和多晶硅的抛光,应用前景良好。

      规格:
    单层结构抛光革 宽度 1000mm        厚度:0.8  1.0  1.2  1.5  1.8  2.0  2.5 mm
    双层结构抛光革 宽度1380-1400 mm   厚度:1.2-1.4mm(精抛)

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