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设备用途:
用于半导体器件烧结、焊接、烘干、管壳气密封装等。
链（带）式烧结炉特点
本设备为气氛保护炉，保护气氛为氢气、氮气、氩气等。
设备具有连续工作性，保证生产效率。
独特的气幕帘结合，确保炉膛与空气隔绝。
多温区控制炉温，方便调整工艺曲线。
链带速度无级连续可调。
根据用户要求可配加湿器
链(带)式烧结炉主要技术指标
带宽 90～350mm
炉膛高度 100～200mm
炉膛宽度 100～370mm
冷却段长 1000～6000mm
温度范围 300～1050℃
等温区长 600～1500mm
控制精度 ±2℃
控制段数 4～10段
带速 20～500mm/min
升温时间 90～240min
升温功率 20～120KVA
保护气体 3～5路氮气0～100L/min
1路氢气0～80L/min
用于半导体器件烧结、焊接、烘干、管壳气密封装等。
链（带）式烧结炉特点
本设备为气氛保护炉，保护气氛为氢气、氮气、氩气等。
设备具有连续工作性，保证生产效率。
独特的气幕帘结合，确保炉膛与空气隔绝。
多温区控制炉温，方便调整工艺曲线。
链带速度无级连续可调。
根据用户要求可配加湿器
链(带)式烧结炉主要技术指标
带宽 90～350mm
炉膛高度 100～200mm
炉膛宽度 100～370mm
冷却段长 1000～6000mm
温度范围 300～1050℃
等温区长 600～1500mm
控制精度 ±2℃
控制段数 4～10段
带速 20～500mm/min
升温时间 90～240min
升温功率 20～120KVA
保护气体 3～5路氮气0～100L/min
1路氢气0～80L/min
