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4001027270
·高方阻:140Ω
·高均匀性:≤±4%,±2%,±2%(片内,片间,批间)
·大产能:1000片/舟(DS-300E),1200片/舟(DS-320),2.38mm间距
设备名称:管式扩散氧化退火炉(低压管式高温扩散炉)
设备型号:DOA-300/DOA-320
设备用途:主要用于晶体硅太阳能电池制造中硅片的掺杂形成PN结。
工艺流程:
石英舟及硅片准备→插片→上料→选择工艺运行→进舟→抽真空→升温稳定→通氧→通源→推进→恒温→出舟→下舟冷却→测试→卸片
技术特点:
· MES控制功能。
· 低压扩散功能。
· 防撞舟技术。
· 源压稳定技术。
· 作适应性变更,可兼容硼扩散工艺技术。
· 高方阻技术解决方案。
· 自动装卸舟。
· 具备侧出舟功能(可选)。
· 智能化控制。
· 匹配S.C智能化生产管理系统。
设备参数
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