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    高温退火炉应用领域用于SiC、GaN等的高温活化退火等工艺

    Applied to the semiconductor industry:

    Processing Equipment-Furnace-退火炉

    Product brand

    青岛精诚华旗

    Specification model:

    高温退火炉

    In stock:

    100

    Place of origin:

    China-山东省

    Quantity:

    cut back increase

    price:

    10000.00
    Transaction guarantee Secured Transactions Online banking to pay

    Brand:青岛精诚华旗

    model:高温退火炉

    Own series:Processing Equipment-Furnace-退火炉

    高温退火炉应用领域用于SiC、GaN等的高温活化退火等工艺

    产品名称: 高温退火炉    高温退火炉 name=
    应用领域:用于SiC、GaN等的高温活化退火等工艺
    关 键 字:高温退火炉、SiC高温退火炉、碳化硅高温退火炉
    产品咨询电话:4008-110044
    产品详细描述:

    工艺:用于SiC、GaN等的高温活化退火等工艺
    晶圆规格:2”4”6”SiC、GaN等晶圆
    设备结构:水平/垂直
    工艺温度:1850/2000℃
    炉体温度:可达2000℃或更高
    生产能力:研发型/小批量,生产型
    设备特点:
    优化结构设计 占地面积小
    灵活多样的工艺调整
    半自动/全自动的选择
    快速的升降温:如200℃/min
    极限真空 1 Pa
    压力控制:如100 Pa至300Pa(或其他要求)
    多种的装片方式

    极方便的操作、维护方式
    极低维护使用成本
    极高的可靠性

    终生的技术支持!

    青岛精诚华旗微电子设备有限公司(青岛华旗科技有限公司,建于1993年),为专业半导体工艺设备及先进材料专用设备研发制造厂家。致力于为半导体集成IC电路分立器件、MEMS、太阳能电池、半导体照明LED及磁性材料厂家提供先进的专用设备,工艺涵盖化合物半导体晶体生长(及提纯、合成等)、外延、薄膜淀积(氮化硅、氧化硅、多晶硅等)、氧化扩散(包括退火合金含工艺及快速退火工艺等)、真空烧结等工艺。半导体工艺设备覆盖三代半导体材料--硅、砷化镓、氮化镓等,高性能磁性材料真空设备(钐钴、钕铁硼等)。同时承担了部分国家863项目(如半导体白光照明GaN生长的HVPE设备等)及相关的国家重点项目等。
        青岛精诚华旗(“华旗科技”)拥有十几年的专业研发制造经验,产品服务广泛应用于行业内的大专院校科研院所、半导体制造、高性能磁性材料制造的企业工厂等。
         青岛精诚华旗(“华旗科技”)拥有精良的科研、设计、制造、服务团队,为中国电子专用设备协会、中国磁性材料与器件协会等多家协会会员单位,承接并出色完成了一系列国家重点项目的专用设备的设计制造。
        2006年通过GB/T19001-2008(ISO9001:2008)质量管理体系认证。

    青岛华旗科技厂房

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    这个生产效率多高??能不能做8寸的?

    gookjll  2017-08-07

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