氧化/扩散炉系列应用于集成电路,分立器件,光电子器件,电力电子器件_工业电炉_Furnace_Processing Equipment_Equipment

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扩散炉，氧化扩散炉产品应用：应用于集成电路、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池等领域，适用2~8英寸工艺尺寸

产品名称：氧化/扩散炉系列
应用领域：半导体
关键字：扩散炉，氧化扩散炉
产品咨询电话：4008-110044
产品详细描述：

产品应用：应用于集成电路、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池等领域，适用2~8英寸工艺尺寸

扩散炉产品特点：
◆工业计算机控制系统，对炉温、进退舟、气体流量、阀门等动作进行自动控制
◆采用悬臂送片器：操作方便、无摩擦污染等
◆关键部件均采用进口，确保设备的高可靠性
◆工艺管路采用进口阀门管件组成-气密性好、耐腐蚀、无污染（管路均采用EP级电抛光管路），流量控制采用进口质量流量计（MFC）
◆控温精度高，温区控温稳定性好；

扩散炉主要技术指标
◆工作温度：200～1300℃
◆加热体控制点：3/5点
◆炉体恒温区：450mm/600mm/800mm/1100mm
◆恒温区精度：＞800℃/±0.5℃ ，＜800℃/±1℃
◆单点温度稳定性：600～1300℃/ ±0.5℃/24h
◆最大可控升温速度：15℃/min
◆最大降温速度：5℃/min（900～1300℃）
◆供电：三相四线，380VAC/50HZ
◆局部净化等级：100级。
◆氧化系统：干氧、湿氧（氢氧内外点火）
欢迎索取相应详尽的技术资料及共研相应项目的解决方案。

青岛精诚华旗微电子设备有限公司成立于1993年(青岛华旗科技有限公司，2009年)，为专业的IC集成电路及器件工艺、半导体材料（晶体生长等）、半导体特气及废气处理、精密真空热处理炉（磁性材料等，成套）设备及解决方案的高科技研发制造企业。致力于为IC集成电路、功率器件、MEMS器件、LED、太阳能电池、新材料等制造厂家及科研院所提供先进的工艺设备（含成套设备及解决方案）。
  出色地完成了部分国家863项目（如GaN厚膜晶体生长的HVPE系统、MOCVD系统等）等。
   GB/T19001-2008(ISO9001:2008)质量管理体系认证。
    主要产品：氧化扩散炉系列、LPCVD 系统、PECVD系统、HVPE系统、MOCVD系统、RTP快速热处理、气瓶柜、半导体尾气（废）处理SCRUBBER，真空热处理炉、链式炉系列、扩散炉体系列等。