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    溅射系统

    Applied to the semiconductor industry:

    Processing Equipment-PVD-磁控溅射机

    Specification model:

    8英寸

    Delivery period:

    4个月Day

    In stock:

    1

    Place of origin:

    United Kingdom

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    Concerned Products

    Brand:

    model:8英寸

    Own series:Processing Equipment-PVD-磁控溅射机

    详细描述:设备原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电子会受到电场和磁场作用,产生E(电场)×B(磁场)所指的方向漂移,简称E×B漂移,其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场,则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动,它们的运动路径不仅很长,而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内,并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材,从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加,二次电子的能量消耗殆尽,逐渐远离靶表面,并在电场E的作用下最终沉积在基片上。由于该电子的能量很低,传递给基片的能量很小,致使基片温升较低。
    磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程,和靶原子碰撞,把部分动量传给靶原子,此靶原子又和其他靶原子碰撞,形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量,离开靶被溅射出来。

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    要是镀件温度过高时,你这是有冷却系统还是缩短加温时间来调控的??

    hunangs  2017-07-04

    您好 方便流一个联系方式嘛??

    2017-07-16

    Ask

    你们价格怎么样啊,现在有现货吗?两台能优惠多少?

    lkoop  2017-07-21

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