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多弧离子镀辅助沉积MT3-PA 离子复合镀膜设备 博锐恒电子
多弧离子镀辅助沉积优点：
1、从阴极直接产生等离子体，不用熔池，阴极靶可根据工件形状在任意方向布置，使夹具大为简化。
2、入射粒子能量高，膜的致密度高，强度和耐久性好，附着强度好。
3、离化率高，一般可达60%~80%。
4、从应用的角度讲，其突出优点是蒸镀速率快。
我公司研发的离子复合镀膜设备具备：
1、先进的离子注入技术；
2、电弧离子镀技术和工艺；
3、低温条件下实现膜层与基体的良好结合；