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    脉冲激光分子束外延 (Pulsed Laser MBE) 高德

    Applied to the semiconductor industry:

    Processing Equipment-PVD-其他

    Product brand

    高德

    In stock:

    100

    Place of origin:

    China-北京市

    Quantity:

    cut back increase

    price:

    Negotiable
    Transaction guarantee Secured Transactions Online banking to pay

    Brand:高德

    model:

    Own series:Processing Equipment-PVD-其他

    脉冲激光分子束外延 (Pulsed Laser MBE)

     

    工作原理:

    高功率脉冲激光束聚焦在腔体并轰击用来沉积的靶材。吸收了高能量的激光,靶材会被激发,蒸发,溅射和形成等离子体。最后在存底上沉积成薄膜。这个过程可在超高真空或存在背景气体下(常用氧气)发生。

     

     

    特点:

    • 超高真空环境(
    • 6个可旋转 的PLD靶
    • 高功率准分子激光
    • 全计算机控制与数据记录
    • 多个沉积源
    • 先进的原位样品温度和膜厚监控
    • 定制的组合泵

     

     

    应用范围:

    • 氧化物半导体
    • 高Tc超导体
    • 光学晶体
    • 电光薄膜
    • 铁电和铁磁材料

     

     

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