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    LDJ系列双离子束溅射沉积薄膜系统

    Applied to the semiconductor industry:

    Processing Equipment-Etching-IBE离子束

    Product brand

    埃德万斯

    In stock:

    1000

    Place of origin:

    China-北京市

    Quantity:

    cut back increase

    price:

    Negotiable
    Transaction guarantee Secured Transactions Online banking to pay

    consumer hotline:00864001027270

    Brand:埃德万斯

    model:

    Own series:Processing Equipment-Etching-IBE离子束

     

    功能概述

    该系统为通用双离子束薄膜沉积系统,可用于溅射沉积各种金属、合金、化合物及半导体材料的单层薄膜、多层薄膜,也可将单质材料通过反应合成氧化物、氮化物、碳化物薄膜。

    工作模式

    衬底表面离子束溅射清洗(IBSC

    衬底表面离子束终极抛光(IBP

    离子束溅射沉积(IBSD)薄膜

    离子束辅助—离子束溅射沉积(IBA-IBSD)薄膜

    离子束辅助—离子束溅射沉积合成(IBA-IBSDS)化合物薄膜

    IBSD-Lift-off薄膜

    应用领域

    适用于各种力、热、声、光、电、磁等新型材料与器件的科学研究与批量生产,尤其在制造纳米薄膜器件领域具有独特的技术优势。

    最宽范围材料适用性

    与其它常规CVDPVD镀膜技术相比,离子束溅射镀膜具有对薄膜材料最普遍的适用性,可溅射沉积的薄膜种类包括金属、非金属、合金、化合物和其它任何固体材料。

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