1. 自动清洗系统
自动化的晶圆切割后清洗设备,具有高效率与多功能的清洗能力,可轻易地清除晶圆表面及切割道内所残留的废屑。
2. 先进的清洗方式
提供高效率的重复清洗方式,利用二流体的高压气加上细粒水珠,可轻易移除微细切沟内的残屑,提供最佳清洗
效果。清洗后的高效率吹乾流程,使晶圆表面毫无水分残留便利下制程之运行。
3. PLC程控操作
. 芯片清洗机是透过人机界面以逻辑式微处理器来控制。举凡:工作盘的转速、二流体喷洒范围、速度、时间或是
重复清洗次数、吹乾次数等各种不同的操作参数,都很容易输入系统,也可从记忆组内选出设置。
4. 特性:
. 可程序控制器加中文显示板
. 可清洗8寸及8寸以下的芯片,并可依使用者需求提供非标准工作盘
. 内建真空产生器与自动排水装置
. 使用二流体嘴加强洗净效果
. 可选用纯氮气式的清后吹乾流程
5. 技术规范
. 纯水压力:MAX. 0.2 Mpa (2 ㎏/cm2),进水管为¢8.
. 电力供应:220 VAC 50 HZ
. 空气压力:MAX. 0.5~0.6 Mpa (5 ~ 6 ㎏/cm2),进气管均为¢8
. 消耗电力:≤1.8 KVA
. 纯水消耗量:MAX. 0.2 liter/min
6. 尺寸:900 x 500 x 1500 ㎜
7. 空气消耗量:MAX. 200 NL/min
8. 重量:约80 ㎏