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    供应高纯TiO2高纯二氧化钛陶瓷靶材 二氧化钛靶

    Applied to the semiconductor industry:

    Proc-Equip Consumable-PVD-镀源、靶材

    Product Brand

    石久

    Specification model:

    按客户要求定制

    Delivery period:

    订货起7日内Day

    In stock:

    1000

    Place of origin:

    China-北京市

    Quantity:

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    Price:

    Negotiable
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    Consumer Hotline:00864001027270

    Brand:石久

    Model:按客户要求定制

    Own series:Proc-Equip Consumable-PVD-镀源、靶材

     二氧化钛,高纯二氧化钛靶

    规格:靶材,颗粒

    化学符号:TiO2 
    沸 点:2500-3000℃ 
    分 子 量:79.88 
    密 度:4.29g/cm3 
    熔 点:1650℃ 
    外 观:白色、黑色 
    黑色TiO2导电率:70-80Ω/cm 
    10ˉ4真空下蒸发温度为:2200℃ 
    蒸发方式:电子束反应蒸发TiO 
    透明波段/nm:350-12000 
    折射率(波长/nm):2.2-2.4(550) 
    介电常数Σ:31-173 
    性 能:适于电子枪蒸发,膜层致密,牢固,抗化学腐蚀.灰色料比白色料易蒸发,但需充氧。也可用钨舟,钼舟加热蒸发,产生分解的吸收膜;不溶于水、稀酸、有机酸和稀碱溶液;但溶于热浓硫酸、氢 氟酸和强碱; 
    应 用:防反膜、冷光膜、分光膜、滤光片、高反膜,眼镜膜。TiO2薄膜具有高的介电常数,可用来制作混合集成电路用的薄膜电容器。一般用热氧化法、阳极氧化法和反应溅射法制备。 

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