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我们的最新材料:Sb2xAs2(1-x)S3具有由Sb-Sb-S3原子组成的完美的1:1:3化学计量比。经过一年的34次生长试验,具备单晶尺寸大,最小的缺陷密度(10万个单胞中的1个)和完善的纯度(99.9998%)。硫化锑硫化物(SbAsS3)是带隙约1.7e的直接带隙半导体材料。与二硫化钼类似,它具有弱层间耦合作用的层状结构,可剥离成单层。单层厚度为0.8nm,单层SbAsS3在实验和理论上未被发现。晶体尺寸范围在5-8mm,显示出卓越的PL特性。
晶体生长周期为8周,显示出高结晶度。拉曼光谱显示半峰高宽FWHM小于6cm-1
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空间群:P21 / c
分层:是/剥离到单层
带隙:〜1.7 eV
纯度:半导体级(6N)99.9999%
生长技术:物理气相传输 - 持续时间:2个月
样品尺寸:5-10mm
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