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SFQ/SFQZ系列湿法设备广泛应用于集成电路、光电子器件、MEMS及分立器件、半导体材料加工、太阳能光伏等领域，用于各种半导体基片及类似材料制造过程中湿化学处理工艺，有手动、半自动及全自动三种配置。
六大专有技术
湿法清洗设备系统集成技术
气/液自动传输及控制技术
材料与化学工程防护技术
温度传递及精确控制技术
晶片自动传输及自动控制技术
溶液流场均匀性控制技术
主要技术特点：
系统结构：设计紧凑、洁净、防腐、安全、多种式样机架可供选择
控制方式：采用高性能PLC或工控机实现集中控制，结合单元功能控制简化操作
槽体配置：材料：NPP、PVDF、PTFE、石英、PVC、不锈钢等多种材料
功能：恒温控制（加热/制冷）、循环、过滤、自动补液、抖动、旋转、超声/兆声、溢流、快排、鼓泡、干燥等
定制设计：根据用户要求提供工艺配置及技术支持
ECD系列:
