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精密抛光机介绍:
1. GNAD61 精密研磨抛光机,主机及所有的零备件均采用高防腐蚀材料,整机防腐,适用于硅等多种半导体材料的化学机械研磨抛光。设备可加工样品尺寸范围为4英寸以下样片。
2. GNAD61 设备设有一个工作站,可加工一片4英寸的样品及若干小于 4英寸的不同形状及尺寸的样片。设备夹具具有100%范围摆动的功能。这一功能设计,可以保证设备在研磨抛光过程中,实现样品的全摆动抛光,大大提升了设备的抛光产能及效率,同时也避免了抛光时间过长造成的样片塌边现象。
3. GNAD61 设备主机配有真空系统和自动填料系统等相关组件。真空系统,包括真空泵,过滤系统及相关连接组件。真空系统通过抽真空的方式将样品直接吸附在样品固定装置底面。根据不同工艺要求,真空系统可以直接吸附样品或者直接吸附贴有样品的玻璃基板。GNAD61 设备随主机标配的玻璃基板采用高质量浮法玻璃,经过精密的研磨工艺使基本实现高平整度,TTV≤2um.真空系统搭载的过滤装置,可以有效的过滤磨抛过程中产生的废料液,以避免废液被吸入真空泵造成故障。设备型号:OCTY302
产地:英国 品牌:crystapol
设备型号:Gnad61
交货期:4个月
价格:200万
联系人:刘经理
联系电话:18901246266
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