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精密抛光机介绍：
1. GNAD61 精密研磨抛光机，主机及所有的零备件均采用高防腐蚀材料，整机防腐，适用于硅等多种半导体材料的化学机械研磨抛光。设备可加工样品尺寸范围为４英寸以下样片。
2. GNAD61 设备设有一个工作站，可加工一片４英寸的样品及若干小于 4英寸的不同形状及尺寸的样片。设备夹具具有１００％范围摆动的功能。这一功能设计，可以保证设备在研磨抛光过程中，实现样品的全摆动抛光，大大提升了设备的抛光产能及效率，同时也避免了抛光时间过长造成的样片塌边现象。
3. GNAD61 设备主机配有真空系统和自动填料系统等相关组件。真空系统，包括真空泵，过滤系统及相关连接组件。真空系统通过抽真空的方式将样品直接吸附在样品固定装置底面。根据不同工艺要求，真空系统可以直接吸附样品或者直接吸附贴有样品的玻璃基板。GNAD61 设备随主机标配的玻璃基板采用高质量浮法玻璃，经过精密的研磨工艺使基本实现高平整度，ＴＴＶ≤２ｕｍ．真空系统搭载的过滤装置，可以有效的过滤磨抛过程中产生的废料液，以避免废液被吸入真空泵造成故障。
