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    研磨设备 精密抛光GNAD61可精确达到不同工艺要求的参数要求

    Applied to the semiconductor industry:

    Processing Equipment-Lapping&Polishing-抛光机

    Product brand

    crystapol

    Specification model:

    GNAD61

    In stock:

    100

    Place of origin:

    China-北京市

    Quantity:

    cut back increase

    price:

    200000.00
    Transaction guarantee Secured Transactions Online banking to pay

    Brand:crystapol

    model:GNAD61

    Own series:Processing Equipment-Lapping&Polishing-抛光机

    研磨设备 精密抛光GNAD61可精确达到不同工艺要求的参数要求
    精湛的精密研磨工艺 超过100家院校,单位研究所,选择我们量身定制设备,欢迎来电咨询:010-57168280 赵小姐
    Gnad 61 优势

    精密抛光设备通过超细抛光液对半导体材料进行抛光,实现平整度,粗糙度等高指标技术要求。

    设备所有的功能,由控制面板按键来控制,每一控制参数,均有独立的按键控制,便于售后的维修服务,可以控制成本。

    研磨抛光盘运行由主驱动部分控制,盘的转速变化可从每分钟0转到每分钟100转,从而保证了不同工艺要求的参数。

    控制面板上定时控制,能够设定连续运转多至10个小时,给操作者以最大的自由操控性。

    在设备的侧面,设计有除液口,用于废液的导出,使得整个工艺过程变得简单快洁。



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    价格是多少人民币

    carmen  2017-06-29

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