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1、 设备用途：利用电阻加热产生热能，将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华，使之在基片表面析出的过程。用于制备各类有机物薄膜、金属膜、导电薄膜、半导体薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量的生产。
2.技术数据：
| 极限真空度（分子泵系统） | 7.0×10-5Pa | 压升率 | ≤6.7×10-1Pa/H |
| 真空室尺寸 | Ф500×450mm | 电阻蒸发源功率 | 1KW |
| 电阻蒸发源数量 | 2套，可切换 | 水冷电极 | 3套 |
| 样品台升降机构尺寸 | 50×50mm | 监控膜厚显示范围 | 0～99μm |
2.2真空系统配置分子泵，机械泵，高真空手动插板阀
