Website Homepage
Shopping cart
User center
Product Category
Prompt message
inquiry experts experts
Service Hotline
4001027270
RTA快速退火炉
● 用 途：
-----------------------------------------------------------------------------------------------
活性退火、合金
薄膜生成退火
欧姆电极烧结
● 特 点：
-----------------------------------------------------------------------------------------------
采用红外测温方式，快速准确测温
加热气氛为真空、气体、流动气体等
可进行高速加热、高速冷却
红外灯管，多温区独立加热，功率可调
可进行大片量Wafer退火工艺
低功耗，高产能
可选配机械手，进行连续式工作
● 技术指标：
-----------------------------------------------------------------------------------------------
|
使用温度范围 |
RT-1100℃ |
|
Wafe尺寸 |
2-6英寸 |
|
放片量 |
16片 |
|
升温速率 |
10-150℃/S 可调 |
|
工艺气体 |
N2 |
|
气体控制 |
MFC、气动阀 |
|
真空机组 |
选配、干式机组 |
|
真空度 |
10-3Pa（10-5Torr） |
|
温度均匀性 |
±3℃（300-800℃） |
|
控制 |
工业PC |
|
载料盘 |
碳化硅 |
|
报警 |
温度、压力、气体、动作报警等 |
|
电源 |
三相五线、50HZ、380V |
