Service Hotline
00864006988696
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             设备名称  | 
            
             湿法刻蚀设备  | 
        
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             设备形式  | 
            
             室内放置型  | 
        
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             设备种类  | 
            
             单片刻蚀、槽式刻蚀  | 
        
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             操作方式  | 
            
             手动/自动  | 
        
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             每批最大处理量  | 
            
             50片  | 
        
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             单槽清洗量  | 
            
             50片/2盒  | 
        
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             被清洗硅片尺寸  | 
            
             3寸 / 4寸/5寸/6寸/8寸  | 
        
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             最大产量  | 
            
             视客户工艺周期  | 
        
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             时间控制  | 
            
             1s  | 
        
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             温度控制  | 
            
             0.1摄氏度  | 
        
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             转移时间  | 
            
             酸槽到水槽转移时间小于2秒  | 
        
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             均匀性  | 
            
             开槽均匀性±5μm  | 
        
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             节拍  | 
            
             节拍可调根据实际工艺时间而定  | 
        
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             用途  | 
            
             用于硅,二氧化硅,氮化硅,碳化硅等晶圆片或者玻璃片的刻蚀  | 
        




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