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CSE-单片清洗机
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设 备 名 称 |
CSE-单片清洗机 |
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类 型 |
单片式 |
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适 用 领 域 |
半导体、太阳能、液晶、MEMS等 |
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清 洗 方 式 |
2英寸——12英寸 |
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设备稳定性 |
1、≥0.2um颗粒少于10颗 2、金属附着量:<3E10 atoms/ cm² 3、纯水消耗量：1L/min/片 4、蚀刻均一性良好（SiO₂氧化膜被稀释HF处理）：≤2% 5、干燥时间：≤20S 6、药液回收率：＞95% |
单片式优点 |
1、单片处理时间短（相较于槽式清洗机） 2、节约成本（药液循环利用，消耗量远低于槽式） 3、良品率高 4、有效避免边缘再附着 5、立体层叠式结构，占地面积小 |
