设备特点

●独立远程操控系统可实现强腐蚀化学抛光过程人机分离远程操控

●可在一个控制终端实现多机联控

●在线实时监控磨盘面形变化

●在线实时磨抛盘温控及冷却功能

●多通道进料系统

●摄像系统实时监控磨抛工艺过程

●磨抛盘自动冲洗功能

设备参数

●磨抛盘转速0-120rpm

●磨抛盘直径：300mm,380mm,420mm,600mmetc.

●GNAD61：1个工作站，可最大兼容1个6英寸样片

●GNAD420：3个工作站，可最大兼容3个6英寸样片

●GNAD620：3个工作站，可最大兼容3个8英寸样片

 GNAD系列高精度研磨抛光设备是MCF公司研制的覆盖半导体材料，光电材料磨抛等多数应用领域的最新一代磨抛机。主要适用的材料包括：硅，砷化镓，铌酸锂，光纤，碳化硅，蓝宝石，碲锌镉等多种材料。GNAD系列磨抛设备包括GNAD61，GNAD420及GNAD620三个系列型号磨抛机。

       设备描述

1、GNAD系列精密研磨抛光机，主机及所有的零备件均采用高防腐蚀材料，整机防腐，适用于多种半导体材料的化学机械研磨抛光。GNAD系列设备可加工标准形状及不同非标准形状尺寸的样片。设备可加工最大样品尺寸为8英寸。

2、GNAD系列设备的功能参数，可由独立的远程操控系统控制。控制系统可根据用户工艺要求选择独立于设备主机的距离，这个配置既提高了化学工艺过程中对操作人员健康安全的保护等级，也方便了工艺过程中更改工艺参数的操作，更是避免了磨抛过程中产生的磨抛液废料腐蚀操作控制系统。

3、GNAD系列可实现一个终端多机联控。通过软件的升级设置，一台控制终端主机可以实现对多台设备的实时在线操控。大大提升了设备自动化功能的同时也极大提升了工艺标准化操作。

4、GNAD系列具有实时在线监测工艺过程中磨抛盘面形的功能，并可实时在线修整磨抛盘的面型。盘面形控制精度1um。

5、GNAD系列磨抛机具有实时在线监控磨抛盘温度变化和冷却功能。盘温接近预设温度警戒值，设备会自动启动冷却功能，保持磨抛盘在工艺要求的温度范围内运转工作。

6、研磨抛光盘运行由驱动部分控制，盘的转速可从每分钟0转到每分钟120转，这个速度变化范围有效保证磨抛不同硬度和尺寸材料样品的速率，从而实现更高的工艺指标。研磨盘与抛光盘的更换简单快捷，嵌入式盘，使得设备能非常快速的从研磨工艺转到抛光工艺，大幅缩短工艺时间。

7、GNAD设备主机配有真空系统和自动填料系统等相关组件。

 真空系统通过抽真空的方式将样品直接吸附在样品固定装置底面。根据不同工艺要求，真空系统可以直接吸附样品或者直接吸附贴有样品的玻璃基板。

 自动填料系统可根据不同的工艺要求，调整滴料速度，并在研磨料用完同时自动停机，以防止没有研磨料时对样品产生的损伤。

  设备可支持多通道进料系统同时工作，实现化学研磨抛光等各种复杂的工艺。　

8、GNAD系列设备的摆臂配置样品水平转动驱动系统，大大提升了磨抛效率的同时，也更好的控制样品平整度。摆臂控制样品驱动系统的摆幅范围可以实现0-100%。这一功能设计，可以保证设备在研磨抛光过程中，实现样品的全摆动抛光，大大提升了设备的抛光产能及效率。

9、夹具配有独立的数字显示表头，可在线监测样品的去除量，精度可实现1um，压力的范围可实现0-10公斤。并可根据用户工艺要求定制各种角度附件等非标夹具附件，实现对非标形状样品的抛光及角度抛光。

10、GNAD系列设备具有设备定时功能，可连续运行10小时。同时，设备具有预设工作时间功能，达到预设时间，设备自动停机。

11、GNAD系列设备具有自动清洗功能。根据工艺要求，GNAD可实时在线冲洗磨抛工作区域。流速，清洗时间等参数可精确数控。

12、GNAD系列设备根据不同材料的工艺要求，可搭载铸铁盘，聚氨酯盘，玻璃盘，铜盘，锡盘及贴抛光布专用的抛光盘等多种材质的磨抛盘。