Service Hotline
4001027270
Consumer Hotline:00864001027270
Negotiable
¥0.05
Negotiable
Negotiable
Negotiable
用 途 |
同步辐射样品载体、PVD/CVD镀膜做衬底、磁控溅射生长样品、XRD、SEM、原子力、红外光谱、荧光光谱等分析测试基底、分子束外延生长的基底、X射线分析晶体、半导体光刻. |
产品尺寸 |
200mm/8" |
表面处理 |
Notch/Flat、SSP单面抛光、E/E双面刻蚀,氧化膜位于抛光片或背面 (具体要求详谈) |
生长方式 |
CZ直拉 |
厚 度 |
大于700μm (SEMI标准厚度) |
掺杂类型 |
P /硼 、N/砷 (具体要求详谈) |
晶 向 |
<111>/<100> (具体要求详谈) |
电 阻 率 |
0.0001-10000(Ω·cm) (具体要求详谈) |
If you have any questions before purchasing, please contact us.