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Transene公司薄膜蚀刻液广泛应用于微电子电路光刻制作过程中获得选择性的金、镍、铬及镍铬等薄膜的蚀刻，可结合光刻胶技术用于在铝板表面薄膜上制备精准的电极和电阻图案。薄膜蚀刻液为安全、无毒的溶液，室温下即可使用。这些蚀刻液可与负性及正性光刻胶相适应，从而得到及其精细的线条形状。
| 品名 | 金蚀刻液 | 银蚀刻液 | 钨化钛蚀刻液 | 铜蚀刻液 | 磷化镓蚀刻液 | 镍蚀刻液 |
| 型号 | TFAC/TFAC/GE-8148 /GE-8110/GE-8111 |
TFS | TiW-30 | Copper Etch-49-1 | GaP | TFB/TFG/TYPE-I |
| 品名 | 钽蚀刻液 | 钯蚀刻液 | 缓冲氧化物蚀刻液 | 硅蚀刻液 | 聚酰亚胺蚀刻液 | 铝蚀刻液 |
| 型号 | SIE-8607/TYPE-111 | TFP/EC | BOE (6:1) | PSE-200 | Sodium Hydroxide | Type-A/ TYPE-D/ TYPE-F |
| 品名 | 铬蚀刻液 | 镍铬蚀刻液 | 钨蚀刻液 | 钛蚀刻液 | 钛钨蚀刻液 | 硅蚀刻液 |
| 型号 | 1020/1020AC/CRE-473 /CE-5M/TFE/CE-8002-A /CE-8001-N |
TFN | TFW | TFT/TFTN | TiW-30 | PSE-200/PSE-300 |
