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    Shipping 关注:252

    紫外光刻机

    Applied to the semiconductor industry:

    Processing Equipment-Lithography-UV泛曝光机

    Product brand

    URE-2000

    In stock:

    10

    Place of origin:

    China-四川省

    Quantity:

    cut back increase

    price:

    Negotiable
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    ¥10000.00

    Concerned Products

    Brand:URE-2000

    model:

    Own series:Processing Equipment-Lithography-UV泛曝光机

     URE-2000/35型光刻机

     

    1.技术特征——非常适合工厂(效率高,操作傻瓜型,自动化程度高)和高校教学科研(可靠性好,演示方便)

    采用自动找平,具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝以及接近式曝光四种功能,自动分离对准间隙和消除曝光间隙,采用350W进口(德国)直流汞灯,可调节光的能量密度。设备外形美观精制,性能非常可靠,自动化程度很高,操作十分方便。

     

    2.技术参数

    l曝光面积:4英寸

    l曝光波长:365nm

    l分辨力:1mm(胶厚mm的正胶)

    l对准精度:±0. 8mm

    l掩模样片整体运动范围:X:15mm;Y:15mm

    l掩模尺寸:2.5英寸、3英寸、4英寸、5英寸

    l样片尺寸:直径f10mm-- f100mm(各种不规则片)

    厚度0.1mm--5mm(可扩展为15mm)

    l曝光方式:定时(倒计时方式)和定剂量

    l具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝光,以及接近式曝光四种功能

    l照明不均匀性: 3%f100mm 范围)

    l双目双视场对准显微镜:既可通过目镜目视对准,也可通过CCD+显示器对准,光学合像,光学最大倍数400倍,光学+电子放大800倍

    物镜三对:4倍、10倍、20倍

    目镜三对:10倍、16倍、20倍

    l调平接触压力通过传感器保证重复

    l数字设定对准间隙和曝光间隙

    l具备压印模块接口,也具备接近模块接口

    l掩模相对于样片运动行程:

     X: ±5mm;   Y: ±5mm;  q:  ±

    l最大焦厚:400mm(SU8胶,用户提供检测条件)

    l光源平行性:3.5 º

    l曝光能量密度:>20mW/cm2,照明面温度<35 º

    l单层曝光一键完成

    l采用球气浮自动找平

    l汞灯功率:350W(直流,进口汞灯)

     

    3.外形尺寸:1200mm(长)´900mm(宽) ´1750mm(高)

     

    4.交货期:1.5月

    advisory

    If you have any questions before purchasing, please contact us.

    Question:
     
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    刻蚀精度多高?基片的尺寸范围多大?分辨率、对准精度多高?

    sjfh  2017-08-14

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