功能特性：

• 阶高量测分辨率可达0.1 nm
• 使用白光干涉量测技术，非破坏性、快速表面形貌量测与分析
• 模块化设计可依量测需求及预算考虑进行各部件选配
• 可搭配彩色或单色相机进行2D量测，使系统亦具备工具显微镜量测功能
• 搭载电动鼻轮，可同时挂载多种物镜并程控切换使用
• 可选择LED光源或是卤素光源
• 量测范围可涵盖150 mm x150 mm
• 整合低倍率物镜(5X与2.5X倍率)，可进行大面积3D量测
• 提供多种表面参数量测功能，如断差高度、夹角、面积、体积、粗度、起伏、薄膜厚度及平整度
• 具备暗点以及边界错误问题修正算法
• 友善的人机接口，简单的图形化控制系统及3D图型显示
• 可交换式的文件格式，可储存与读取数种3D轮廓文件格式
• 强大的STA Master表面轮廓分析软件，提供超过150种线、面轮廓参数计算
• 自动化快速自我校正，确认系统量测能力
• 提供中/英文程序界面切换
• 提供脚本量测功能，具备自动量测能力

技术规格：

Chroma 7503三维光学轮廓仪新一代的系统模块化设计，具备高度弹性之组合配置，可针对不同之量测需求配置来符合不同之量测应用：搭载电动鼻轮，最多可同时挂载5种物镜，使用时直接切换，省去手动更换的麻烦。同时配备电动调整移动平台，可对样品作自动调平及定位。垂直与水平轴向扫描范围大，适合各种自动量测之应用，样品皆不需前处理即可进行非破坏、快速的表面形貌量测与分析，最适合使用于业界研发生产、制程改善以及学术研究等单位。

Chroma 7503三维光学轮廓仪之高度分辨率可达0.1 nm，而搭配使用Z垂直轴量测扫描行程更可达到100mm，且水平轴向亦可达次微米解析，除此Chroma 7503 可透过计算机控制移动平台进行水平扫瞄，使其水平轴向量测范围可达到150 × 150mm，并可依据客户需求修改平台尺寸。Chroma 7503搭配快速的校正程序以及演算原理，系统校正结果可以追朔至NIST标准，并结合数种创新且强固可靠的算法，因此本系列产品可同时拥有高精准度以及大范围量测的特质。

Chroma 7503系统配备自动化扫描平台，藉由垂直轴自动化移动平台的扫描功能搭配快速的自动对焦算法，可有效辅助用户找到最佳的对焦位置，另外藉由倾斜调整平台可快速地将待测物调平，在短短的几秒钟之内无需繁复的操作，系统即可自动将待测物体调整至最佳对焦位置并予以调平进行量测。

目前商用白光干涉分析仪最常使用之质心算法来计算表面高度，因光线绕射的效应在某些位置产生错误高度计算，造成量测结果边界轮廓出现错误的信息，本系列产品采用最新开发3D Profiler Master量测软件，并搭配Chroma干涉讯号处理算法来分析白光干涉图谱，可将边界错误问题予以避免。此外，系统亦搭载Chroma的暗点处理功能，可有效过滤并修正无法产生干涉之问题数据点，将这些暗点去除后可降低量测上的误差。由于暗点处理的机制在资料撷取期间执行，因此暗点滤除功能可有效率的执行，由于暗点乃参考其附件周围数据来进行修正，因此可使得量测更加强固且可靠。

STA (Surface Texture Analysis) Master软件针对表面轮廓数据分析、修正以及图标提供完整的面形貌呈现，更提供超过150种线或面的轮廓参数计算，其中包含粗度、起伏、平整度、顶点与谷点等参数资料，高通滤波、低通滤波、快速傅立叶变换以及尖点移除空间滤波等工具提供使用者进行高/低/带通讯号滤除，且软件亦具备多项式拟合、区域成长、整面及多区域调平方法，可灵活运用于数据处理与分析上。

在众多高科技产业中，诸如半导体、平面显示器、光纤通讯、微机电(MEMS)、生物医学与电子封装等，由于微结构表面轮廓的准确性决定了产品的效能与功能，在其制程中皆需针对微结构的表面轮廓质量进行监测。有鉴于此，Chroma 7503提供多种表面参数量测功能，如断差高度、夹角、面积、体积、粗度、起伏、薄膜厚度及平整度以满足业界与研究单位之需求。

Chroma 7503兼具2D与3D量测，搭配快速倍率切换以及大面积接图功能能应付产业界的各种应用需求。此外更加入弹性的模块化设计，可依客户端实际的应用需求进行搭配，让用户可在价格与功能规格之间取得平衡，是您提升效率及节省成本的最佳选择。

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